智现未来R2R解决方案，利用历史运行的工艺和测量数据，来观测和计算后续的工艺配方值，实现过程工艺实时调优，防止设备老化及外界环境对设备的影响，为生产工艺稳定性和一致性提供最精准、最实时的保障，提升产品良率，降低成本和cycle time。
改进良率和过程控制
基于客户实证的框架解决方案提升全厂运营效率
大大减少工艺人员工作量、错误率
智现未来R2R 实时过程工艺控制
Equipment Run to Run Process Control
智能化水平低
参数众多，人工调整工作量大
缺少柔性、灵活性过程控制
行业痛点
PAIN POINTS
现有外延设备智能化水平与生产需要不相适应，亟需技术手段提高生产效率。
易出现调参不一致或人为误操作带来的良率问题和质量问题。
关键工艺参数波动，在大批量生产的行业中，容易造成产品过剩、物料浪费。
提高良率和合格率的关键
减少或消除质量影响因数对半导体制程的干扰是提高芯片成品的合格率和良率的关键
提高半导体设备ROI和设备综合效率OEE的重要手段
集成电路生产线投资成本高，为了尽快收回投资成本，需要不断提高设备的生产效率和OEE
实现更严格的工艺窗口
满足更高制程技术要求
解决制程过程中各项参数和性能指标漂移问题，及时纠偏，提高生产率、降低能耗、改善产品质量和连续性
重要性
IMPORTANCE
20年产品硬核
用户友好型
稳健的控制
轻松分析数据
高度灵活性
动态建模
轻松客制化
智现未来产品亮点
PRODUCT HIGHLIGHTS
经三星，海力士、KIOXIA、BOE 等200+ 半导体工厂，60+Display 工厂项目量产验证。
按照用户使用习惯设计，简化用户操作步骤。可以与C/S架构产品同时使用，满足用户不同的需求。
提供一流的人工智能算法和流程库，用于输入控制、输出预测和过程优化。
适合行业目的的分析，支持 light 数据库资源和系统硬件，灵活的数据模式。
开放式架构，快速集成全厂现有系统（MES、RTD、EAP等），无需改造原有系统。
无需重启系统，即可轻松建模和部署，还可通过模型仿真进行验证，缩短部署时间。
支持度高，根据客户实际需求，客制化开发所需模块。
图形化建模 集成虚拟DOE 动态模型部署 |
基于图形化工作流程的过程控制
1. 用户可以使用图形化工作流程对象，创建自定义的过程控制工作流程和逻辑.
2. 管理过程控制逻辑，而无需编写程序。
3. 对应各种统计公式和算法，并处理过程中的各种例外情况
与虚拟 DOE集成
通过历史数据集进行 eR2R控制模型模拟
动态模型部署
动态上传新的过程控制模型，而无需系统停机
重点功能
KEY FEATURES
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