半导体行业应用：与国内某半导体龙头企业合作案例

国内某半导体龙头企业-litho案例解析

一、背景

• 工艺波动与参数变化

在半导体Photo工艺中，微小的工艺波动和参数变化都可能对最终的芯片性能和质量产生显著影响。这种影响可能导致产品良率下降，增加生产成本，甚至影响到整体生产线的稳定性。

• 质量控制挑战

传统的质量控制方法往往难以应对复杂的工艺变化和参数波动，因此需要引入更高级的工艺控制技术。

二、解决方案：智现未来R2R 先进过程控制

R2R管控处理流程

• 数据收集：实时收集Photo工艺环节的关键参数数据，包括设备状态、工艺条件、产品质量指标等。

• 模型建立：基于收集的数据，建立自适应模型，描述工艺参数与产品质量之间的关系。

• 分析调整：利用算法对模型中的参数进行实时调整，以适应工艺变化。

• 配方优化：基于模型分析结果，自动调整工艺的配方参数，以最小化工艺变化对产品质量的影响。

三、产品效益

• 良率提升：通过R2R控制技术的应用，能够显著降低不良品率，提高产品的整体良率。

• 成本降低：减少再工次数和废品率，降低生产成本，提高生产效率。

• 产能增加：减少工艺调整的时间和再工次数，提高生产线的产能。